Sigma 系列產品用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡. 靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能 將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。
型號:Sigma 系列
產品介紹：
Sigma 系列產品用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡.
靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能
將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合，利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間：設置成像與分析步驟，提高效率。
Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有*的背散射幾何探測器，可快速方便地實現基礎分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
用于清晰成像的靈活探測
利用先進探測術為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。
利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
利用新一代的二次探測器，獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程
4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環境中，從快速成像和節省培訓首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
首先，先對樣品進行導航，然后設置成像條件。
接下來對樣品感興趣的區域進行優化并自動采集圖像。*后使用工作流程的*后一步，將結果可視化。
高級分析型顯微鏡
將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合：Sigma *的背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。
在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結果。
基于成熟的 Gemini 技術
Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率，通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的靈活探測
利用新的探測技術表征所有的樣品。
在高真空模式下利用創新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
利用 BSD4 或者 YAG 探測器進行成份分析。
Sigma 300 可提供
集成式 EDS 解決方案:在低能量分析應用中同時實現高清晰度成像
Sigma Element 是一種集成式 EDS 解決方案，擁有高可用性和低電壓靈敏度。僅需使用一臺計算機來控制 EDS 和 SEM，進而大大提升了該集成化解決方案的易用性。同時，借助專門為顯微鏡和 EDS 操作設計的用戶界面可實現并行控制。
? 集成化：通過集成化，結合高清晰成像與快速分析，從而獲得不錯結果
? 定制化：根據不同的用戶需求定制軟件
? 靈敏度：獨特的氮化硅窗口增強低能X射線的探測靈敏度
拉曼成像與掃描電鏡聯用系統:完全集成化的拉曼成像
獲取樣品中化學結構的指紋信息：聚焦拉曼光譜成像可擴展您的蔡司Sigma 300 掃描電鏡性能。 分析獲得樣品分子結構和結晶信息。 通過拉曼成像與EDS數據可進行3D 分析并與SEM圖像關聯。完全集成化的拉曼成像掃描電鏡聯用系統使你充分發揮SEM和拉曼系統的功能。
技術參數
型號: Sigma 300
分辨率:1.0nm@30kV STEM、1.0nm @15 kV 、 1.8nm @1kV
放大倍數∶10-1,000,000x
加速電壓:調整范圍:0.02-30 kV(無需減速模式實現)
探針電流:3pA~20nA ( 100nA選配)穩定性優于0.2%/h
低真空范圍:2-133Pa ( Sigma 300VP可用)
樣品室:365 mm ( p ) ,275mm ( h )
樣品臺∶5軸優中心全自動X=125mm V=125 mm Z=50 mm T=-10o-90o R=360o連續
系統控制∶基于Windows 7的SmartSEM操作系統，可選鼠標、鍵盤、控制面板控制
存儲分辨率:32k x 24k pixels
上一個：便攜式掃描電子顯微鏡
下一個：分析型掃描電鏡
3View?成像系統
便攜式掃描電子顯微鏡
分析型掃描電鏡
活細胞倒置熒光顯微鏡
